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半导体超高真空环境中的精细清洗 返回 >>

作者:亚博登陆 日期: 2022-09-22 12:13:14

  真空环境需求现已被广泛运用于半导体制作各个过程中。等离子放电、离子化、飞溅等加工工序都在真空中进行。真空等级能够分为低真空,中真空, 高真空以及超高真空;精细半导体制作的是从高真空等级到超高真空等级。所以关于半导体设备的真空腔体清洗要求也很高。

  工艺或设备的运用要求“超高真空”(UHV)和“超高线 Torr或更小。 在这个级别上,走漏一小部分原子/分子到工作环境中就会损坏或损坏功能。

  1.有机资料嵌入/溶解/残留在金属表面的线.过多的排气意味着终究处理设备将难以拉到所需的线.对每个客户来说,常见的污染物是水基冷却剂的残留物; 洗涤剂残留也有问题

  • 满意容器排气(outgassing)功能的测验 (由第三方实验室检测).此测验检测出了在真空下嵌入金属表面的有机资料的数量和成分。假如测验中的数量太大,则意味着终究的加工设备很难将容器线 GD 在这些测验中都有极好的体现, 首要体现为优异的清洁才能以及测验中未发现清洗剂的残留。

  冲刷: 3 个阶段: 自来水, 去离子水以及终究的去离子水. 一切的冲刷需要在挨近 22 – 25°C的环境进行.经过一个闭环去离子水体系(水经过去离子水床的接连循环),终究的冲刷被控制在至少4 MΩ。