亚博登陆

当前位置: 首页 > 产品销售 > 工业清洗剂类

你知道等离子清洗机的清洗原理吗? 返回 >>

作者:亚博登陆 日期: 2022-09-22 12:13:04

  等离子清洗机选用气体作为清洗介质,有用地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵,作业时清洗腔中的等离子体柔柔冲刷被清洗物的外表,短时间的清洗就能够使有机污染物被彻底地清洗掉,一起污染物被真空泵抽走,其清洗程度到达分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功用外,在特定条件下还可依据需要改动某些资料外表的功用,等离子体效果于资料外表,使外表分子的化学键产生重组,构成新的外表特性。对某些有特别用处的资料,在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不光加强了这些资料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和灭菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、资料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等范畴。

  经过化学或物理效果对工件外表进行处理,完成分子水平的污染物去除(一般厚度为几个~几十个纳米),然后进步工件外表的活性。被铲除的污染物可能为有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、微颗粒污染物等。对应不同的污染物,应选用不同的清洗工艺,依据挑选的工艺气体不同,等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。

  Ar+在自偏压或外加偏压效果下被加快产生动能,然后炮击在放在负电极上的被清洗工件外表,一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物,一起进行外表能活化。

  等离子清洗机在各行各业现已广泛应用,等离子清洗机设备原理并不杂乱,可是一套完好的等离子体系包括许多方面。在运用过程中,合理有用的进行设备保护,能够削减设备的毛病率,添加设备的运用寿命,一起能够保证清洗到达出产的工艺规范。这在工业出产制作上,能起到很大的安稳效果。

  等离子清洗机原理是两个电极之间构成高频交变电场,用真空泵在设备的密闭容器中完成必定的线)跟着气体越来越淡薄,分子间隔及分子或离子的自在运动间隔也越来越长,区域内气体在交变电场的激荡下,构成等离子体。在真空和瞬时高温状态下,活性等离子对孔壁内钻污、残胶及油污等污染物进行物理炮击与化学反响两层效果,污染物部分蒸腾或在高能量离子的冲击下被击碎,使被清洗物外表物质变成粒子和气态物质,经过抽真空排出,然后到达清洗意图。

  在实践出产中,咱们发现等离子清洗机一些重要的部件会跟着运用时间的推移产生不同程度的氧化、老化、腐蚀等问题,会是引起等离子清洗机达不到清洗效果的原因,例如反响腔、电极、托板架、气体的压力等。以下介绍了几个要害部位保养前后的效果以及怎么进行保养。

  等离子腔体清洁时产生的污物大部分都挨近电子等级,会跟着真空泵扫除。但也会有一些大颗粒污染物产生。这些大颗粒污物会附着在腔壁、电极和托板架上。腔壁上有一层薄薄的“灰”,腔底坠落更严峻。关于腔壁用不行坠落的毛刷清洁使颗粒粉尘异物在腔壁掉落,用吸尘机将污物吸出。用脱脂布沾酒精擦洗,其次腔体导入N2和O2,用等离子体铲除腔体内残余物,作业10min。

  托板架和电极长期运用后会附着氧化层,一起选用等离子体处理烃基资料时,一段时间后在托板架、电极,RF导电杆上会堆集一层薄的烃基残留物,这些残留物和氧化层是无法用酒精擦洗掉的。应依据附着物的量对电极、托板架进行创新保护能保证清洗的安稳。清洗资料要求:氢氧化钠、硫酸、城市用水和蒸馏水。留意:不要运用手磨机、砂纸或磨蚀性喷砂处理等机械办法清洁;氢氧化钠溶液会与铝产生剧烈的化学反响,应小心翼翼以保证仅在所需的时间内铲除沉积物;反响中会生成具有潜在爆炸性的氢气,因而作业区域应坚持杰出的通风。

  检查真空泵油位和油的纯度,调查油位视窗,发现油位挨近最低红线刻度,加油到红标线上下之间方位。

  等离子清洗机在运用过程中,腔体内呈现的一些残留物和氧化层,在前期发展阶段,该薄层并不影响设备的工作或制品。可是经过继续的工作后,发现了清洗效果不安稳,能察觉到细小改动,所以在运用一段时间之后是需要将托板架与电极进行清洗创新。一起设备呈现的毛病也直接表现设备的保养的程度。如经恰当的修理、创新,电极的运用寿命可到达预期运用的最大值。那么经过等离子清洗设备的原理和构成拟定可行性保养方案很要害。从图1可看出等离子设备的三大条件是真空环境(真空机组,真空检测仪,腔体的密闭)、高能量(射频电源、温度、工艺气体)和介质(腔体、电极、托板架)组成。那么等离子清洗机的保养应从以上这些方面进行,依据保养项目区分周期分为每日、每周、每月、半年、每年、2~3年,见表1。

  在实践出产过程中,影响等离子清洗效果的不仅仅是工艺技能,还有设备的安稳性,比方工艺气体的细小走漏、电极托板架的烃基残留物、腔体内其他管道的氧化程度以及设备自身不同程度的毛病这些都是在出产制作过程中直接对出产产生影响。因而,做好等离子清洗机保护保养十分必要。

  PLUTO-T等离子清洗机为40KHz频率,其物理效果占主导,处理资料主要为外表改性,如:PDMS键合,增大资料外表粗糙度、外表张力,进步资料外表亲水性等。

  PLUTO-M等离子清洗机为13.56MHz频率,其化学效果和物理效果一起存在,处理功用可分为:清洗、改性、去胶等。能够说13.56MHz兼具了40KHz的功用,一起还具有了清洗、去胶功用。

  等离子体中的很多离子、激发态分子、自在基等多种活性粒子,效果到固体样品外表,不光铲除了外表原有的污染物和杂质,并且会产生刻蚀效果,将样品外表变粗糙,构成许多微细坑洼,增大了样品的比外表。进步固体外表的潮湿功用。

  等离子体中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的键能在0~10eV,因而等离子体效果到固体外表后,能够将固体外表的原有的化学键产生开裂,等离子体中的自在基与这些键构成网状的交联结构,大大地激活了外表活性。

  假如放电气体中引进反响性气体,那么在活化的资料外表会产生杂乱的化学反响,引进新的官能团,如烃基、氨基、羧基等,这些官能团都是活性基团,能明显进步资料外表活性。

  这个应该是传统的半导体清洗技能,应该不算新技能。 原理是经过plasma的气体和有机物进行反响到达清洗的意图。